VHP凈化循環(huán)的4個階段，去污過程可分為三個階段，準(zhǔn)備階段、去污階段和驗證階段：

　　1.先決條件

　　通過控制溫度、相對濕度和空氣質(zhì)量來制備要凈化的區(qū)域或材料。該階段確保達到過氧化氫的最佳濃度，以實現(xiàn)有效的凈化。

　　2.除濕

　　擴散階段-將H2O2引入待污染區(qū)域或材料上。這可以使用蒸汽或霧化的H2O2來完成。凈化階段的相應(yīng)濃度和持續(xù)時間取決于存在的污染物的類型和數(shù)量，以及被凈化區(qū)域或材料的大小和復(fù)雜性。

　　3.注射：去污

　　擴散階段-將H2O2引入待污染區(qū)域或材料上。這可以使用蒸汽或霧化的H2O2來完成。凈化階段的相應(yīng)濃度和持續(xù)時間取決于存在的污染物的類型和數(shù)量，以及被凈化區(qū)域或材料的大小和復(fù)雜性。

　　4.后處理

　　現(xiàn)在對該區(qū)域或材料進行通風(fēng)或催化過氧化氫，以將過氧化氫的濃度降低到安全水平。這主要是通過引入新鮮空氣、使用空氣過濾器或催化H2O2來實現(xiàn)的。該階段的持續(xù)時間取決于引入的過氧化氫的濃度以及將空氣調(diào)節(jié)回安全水平的過程。

　　驗證凈化過程的有效性：

　　如果一個過程具有高度的可重復(fù)性和嚴(yán)格的控制，您可以使用特定的濕度和溫度測量來評估H2O2凈化循環(huán)的成功。這是因為用汽化的H2O2注入H2O2會影響房間的濕度和溫度。在凈化周期之前和之后對這些參數(shù)的準(zhǔn)確測量可以幫助確定是否達到了所需的水平。

　　通常，工藝也會使用合適的H2O2測量裝置直接測量空氣中的H2O2濃度。然而，必須注意的是，測量空氣中的H2O2濃度可能不足以評估H2O2過程的成功，因為可能還有其他因素影響成功，如房間大小、消毒持續(xù)時間和使用的H2O2濃度。

　　如何監(jiān)測濕度和溫度：

　　測量濕度和溫度很重要，因為過氧化氫是一種反應(yīng)性化學(xué)物質(zhì)，在某些條件下會分解或降解。高溫和高濕度會加速過氧化氫的分解，導(dǎo)致效力和有效性的喪失。此外，過氧化氫可以與其他物質(zhì)反應(yīng)，如金屬。在水分存在的情況下，會形成可能有害的副產(chǎn)品。

　　因此，控制過氧化氫儲存和處理過程中的溫度和濕度以確保其穩(wěn)定性和有效性至關(guān)重要。除濕機或空調(diào)可以控制濕度，溫度可以通過制冷或供暖系統(tǒng)來控制。定期監(jiān)測溫度和濕度水平有助于防止過氧化氫的降解，確保凈化水平的質(zhì)量和安全。

　　過氧化氫環(huán)境中的Rotronic濕度傳感器：

　　過氧化氫可能會降解或破壞敏感材料，如濕度傳感器中使用的聚合物，并可能影響傳感器和電子設(shè)備的精度和壽命。

　　PST提供了一種特殊的傳感器，由于其額外的保護籠，對過氧化氫具有更強的抵抗力：Rotronic HYGROMER®HH-1-SK。該傳感器已在上述條件下工作了10多年。一些最大的過氧化氫凈化設(shè)備供應(yīng)商已與PST合作，并依靠我們的傳感器技術(shù)確保其解決方案有效運行。

　　最后，重要的是要記住，必須為實驗室、隔離室和手套箱仔細(xì)選擇濕度傳感器，這些地方通常使用過氧化氫進行消毒。雖然可能不參與消毒過程，但這些控制或監(jiān)測傳感器將繼續(xù)使用。如果您的傳感器不是專門為容忍反復(fù)暴露于過氧化氫而設(shè)計的，它們可能會迅速失效或提供不準(zhǔn)確的測量結(jié)果

　　聯(lián)系無錫徽科特討論您的應(yīng)用，我們很樂意為您推薦合適的產(chǎn)品。

　　在我們的聲明中了解更多關(guān)于羅卓尼克過氧化氫探頭工作原理的信息，以及滅菌過程的描述：

　　羅卓尼克Rotronic HYGROMER®HH-1-SK電容式濕度傳感器在含有過氧化氫和冷凝的環(huán)境中無法提供準(zhǔn)確的水濕度相關(guān)測量結(jié)果。在這種情況下，存在冷凝的測量信號其次受到H2O2濃度的影響。

　　濕度傳感器本身是耐過氧化氫的，這意味著傳感器在過氧化氫冷凝階段之前和之后都能提供準(zhǔn)確的測量結(jié)果）。暴露于H2O2結(jié)束后，再次顯示正確的測量值。

　　盡管羅卓尼克Rotronic HYGROMER®HH-1-SK電容式濕度傳感器能夠耐受H2O2，但仍建議盡可能縮短傳感器元件上的冷凝階段。根據(jù)應(yīng)用，永九移除探頭上的保護過濾器并將探頭放置在改善氣流的位置可能是有益的。

　　情況描述：過氧化氫滅菌過程和相對濕度測量

　　對濕度探頭和測試結(jié)果的評估表明，在滅菌室中某些工藝序列的注射階段，快速引入產(chǎn)生的過氧化氫氣體-水蒸氣混合物會導(dǎo)致濕度探頭上的冷凝。

　　這是由于在H2O2蒸發(fā)之前，探頭暴露在約22°C的正常環(huán)境溫度下造成的。注射階段通常非常快，范圍約為28-30°C。由于注入了過氧化氫，相對濕度迅速上升到大于90%RH的值。探頭的熱質(zhì)量導(dǎo)致探頭溫度延遲升高。在相對濕度非常高的情況下，這意味著露點和探頭溫度之間的差異很小。如果露點溫度達到探頭溫度，則所有低于露點溫度的表面都會發(fā)生冷凝。

　　這意味著受影響區(qū)域會形成一層微滴（含H2O2的水）。濕度傳感器及其電氣連接也會受到影響。然后，探頭顯示一個測量信號，該信號由實際濕度信號和其他影響（如冷凝膜情況下的爬行電流（取決于涂層密度和電導(dǎo)率）、傳感器表面上的單個液滴、冷凝情況下原電池形成的交叉影響（電化學(xué)反應(yīng)）、之前的污染（之前充電循環(huán)的蒸發(fā)殘留物）組成。

　　關(guān)于注射和暴露階段的測量信號，還應(yīng)注意的是，H2O2在較高溫度下和冷凝的情況下會迅速分解。這種分解反應(yīng)產(chǎn)生額外的水，當(dāng)蒸發(fā)或直接在氣相中產(chǎn)生時，會導(dǎo)致額外的水分含量。這會導(dǎo)致相對濕度值高于預(yù)期。保持該冷凝階段，直到水膜在物理上可以再次干燥。在干燥狀態(tài)和通風(fēng)階段，濕度傳感器再次正確檢測氣相中的水蒸氣量（根據(jù)WMO標(biāo)準(zhǔn)化為相對濕度）。

　　濃度和污染物：